ASML高管走訪三星半導體工廠:稱其希望率先獲得High-Na EUV光刻機設備

            發布時間:2020-12-02 09:49:23  |  來源:IT之家  

            12月1日消息 據韓國媒體businesskorea報道,三星電子正在尋求加強與荷蘭半導體設備制造商ASML的技術和投資合作。

            上周,包括首席執行官Peter Burnink在內的ASML高管參觀了三星電子的半導體工廠,討論了在EUV光刻設備供應和開發方面的合作。ASML官員與三星電子副董事長金基南及其他三星重要高管進行了會談。三星電子副會長李在镕沒有參加會議。

            業內人士認為,三星電子要求供應更多EUV光刻設備,并討論了兩家公司在開發下一代EUV光刻設備方面的合作。

            IT之家獲悉,三星需要更多的EUV光刻設備來擴大其在全球代工市場的份額。然而,作為全球唯一的EUV光刻設備制造商,ASML向全球第一大代工企業臺積電供應的設備比向三星電子供應的設備更多。

            三星電子希望與ASML建立技術聯盟,以確保擴大下一代EUV光刻設備的供應。在ASML方面,由于下一代EUV設備的開發需要大規模的投資,因此與三星的投資合作是必要的。

            三星希望投資開發高數值孔徑(High-Na)EUV設備,以提高半導體微細加工所需的電路分辨率。該設備的價格預計為每臺5000億韓元(約合人民幣29.662億元),比現在的EUV設備高出2~3倍。ASML計劃在2023年中期推出該設備的樣機。三星電子希望先于臺積電獲得ASML的設備,以取得技術領先。

            然而一位三星官員表示,會議上沒有做出具體的投資決定。他表示,ASML高管訪問三星電子是為了回應副董事長李在镕10月份訪問ASML總部。

            ASML高管還會見了SK Hynix總裁李錫熙。有消息稱,他們就如何擴大EUV設備的供應和促進合作進行了討論。

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