1 月 4 日消息(南山)據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道，晶圓代工龍頭臺(tái)積電 2020 年?duì)I收同比增長(zhǎng)超過 30%，創(chuàng)下歷史新高，同時(shí)資本開支 170 億美元，也創(chuàng)下歷史新高。預(yù)計(jì) 2021 年隨著 3nm 產(chǎn)能建設(shè)，以及美國(guó) 5nm 工廠制造，資本開支將超過 200 億美元。
盡管其大客戶海思半導(dǎo)體 2020 年下半年遭遇美國(guó)封殺，導(dǎo)致產(chǎn)能空缺，但 5G、WiFi 6、人工智能和超算對(duì)高端制程的需求持續(xù)強(qiáng)勁，臺(tái)積電 7nm 和 5nm 制程供不應(yīng)求。展望今年，臺(tái)積電高端制程也被訂單排滿。
根據(jù)臺(tái)積電規(guī)劃，3nm 將于 2022 年投入量產(chǎn)，廠房占地面積為 35 公頃，潔凈室面積超過 16 萬平方公尺，大約 22 座標(biāo)準(zhǔn)足球場(chǎng)大小。到 2022 年，產(chǎn)能估計(jì)超過 60 萬片 12 英寸晶圓，也是全球擁有最多 EUV 產(chǎn)能的超大型晶圓廠。
此外，臺(tái)積電 5nm 制程月產(chǎn)能為 5 萬片，預(yù)計(jì)到今年下半年達(dá)到 10 萬片。
資料顯示，臺(tái)積電在 2016 年資本開支首度突破 100 億美元，達(dá)到 102 億美元。2018 年以來，在 7nm 等高端制程加持下，臺(tái)積電資本開支連續(xù)創(chuàng)下新高。
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