由長江存儲實施的國家存儲器基地項目二期 于6月20日在武漢東湖高新區(qū)開工

            發(fā)布時間:2020-06-22 15:54:50  |  來源:IT之家  

            6月22日消息 根據(jù)長江存儲官方的消息,由長江存儲實施的國家存儲器基地項目二期(土建)于6月20日在武漢東湖高新區(qū)開工。

            據(jù)介紹,長江存儲國家存儲器基地項目由紫光集團、國家集成電路基金、湖北省科投集團和湖北省集成電路基金共同投資建設(shè),計劃分兩期建設(shè)3D NAND閃存芯片工廠。項目一期于2016年底開工建設(shè),進展順利,32層、64層存儲芯片產(chǎn)品已實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn),并成功研制出全球首款128層QLC三維閃存芯片。

            在開工儀式上,紫光集團、長江存儲董事長趙偉國介紹了項目有關(guān)情況。他表示,國家存儲器基地項目一期開工建設(shè)以來,從一片荒蕪之地變成了一座世界領(lǐng)先的存儲器芯片工廠,實現(xiàn)了技術(shù)水平從跟跑到并跑的跨越。

            據(jù)曾報道,4月份,長江存儲科技有限責任公司宣布其128層QLC 3D NAND 閃存(型號: X2-6070)研發(fā)成功,并已在多家控制器廠商SSD等終端存儲產(chǎn)品上通過驗證。作為業(yè)內(nèi)首款128層QLC規(guī)格的3D NAND閃存,長江存儲X2-6070擁有業(yè)內(nèi)已知型號產(chǎn)品中最高單位面積存儲密度,最高I/O傳輸速度和最高單顆NAND 閃存芯片容量,擁有1.6Gb/s高速讀寫性能和1.33Tb高容量。

            關(guān)鍵詞: 國家存儲器基地項目二期

             

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