3 月 8 日消息 上海新陽今日發布公告：公布了最新的 ASML-1400 光刻機有關進展。
經各方積極協商、運作，ASML-1400 光刻機設備于今日已進入合作方北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司場地，后續將進行安裝調試等相關工作。公司采購的 ASML 干法光刻機設備順利交付，對加快 193nmArF 干法光刻膠產品開發進度有積極影響。
據介紹，上海新陽半導體材料股份有限公司自立項開發 193nmArF 干法光刻膠的研發及產業化項目以來，委托購買了 ASML-1400 光刻機等核心設備，并于今日運抵國內。
官方對該公司的影響及風險提示：
1、公司采購的 ASML 干法光刻機設備順利交付，對加快 193nm ArF 干法光刻膠產品開發進度有積極影響，有利于進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，加快落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。
2、該光刻機尚須經過裝機、調試等相關環節，若相關環節出現工作疏漏或失誤則存在造成所購買的光刻機投入使用的過程較長甚至無法投入使用的風險。
3、光刻膠研發項目技術壁壘高、周期長、至產業化并最終實現銷售利潤仍需一定時間，而公司購買的光刻機設備價格昂貴，其折舊及后續維護費用預計對公司的經營業績存在一定影響。
